Наши разработки в области CVD
Нами разработаны:
- современный комплекс оборудования для проведения CVD процессов, получены патенты на некоторые устройства,
- методики безводородного осаждения таких высокотемпературных материалов, как: тантал, карбид тантала, молибден, кремний и силициды,
- теоретические основы низкотемпературного безводородного процесса химического газофазного осаждения материалов с помощью восстановления галогенидов парами металлов-восстановителей,
- ведутся разработки методов нанесения других покрытий.