Исследовательская установка для химического газофазного (парофазного) осаждения материалов на образцы плоской формы
![Исследовательская CVD-установка для осаждения покрытий на плоские образцы Исследовательская CVD-установка для осаждения покрытий на плоские образцы](/images/cvdrazrab/cover/vlp.jpg)
Назначение установки ЛП
Изучение процессов химического газофазного (парофазного) осаждения на образцы плоской формы.
Установка может применяться для решения следующих задач:
- осаждение покрытий, в том числе многослойных и градиентных, используемых в качестве защитных покрытий, покрытий с повышенной износостойкостью, тепловой защитой, тонких пленок и слоев гетерофазных структур в электронной промышленности;
- осаждение порошковых материалов различной дисперсности, микро- и наноматериалов;
- газофазный синтеза новых веществ заданного состава;
- исследование разложения прекурсоров при воздействии температур и давлений;
- исследование процессов переноса прекурсоров в потоках газов;
- и т.д.