Назначение установки ЛП

Изучение процессов химического газофазного (парофазного) осаждения на образцы плоской формы.

Установка может применяться для решения следующих задач:

• осаждение покрытий, в том числе многослойных и градиентных, используемых в качестве защитных покрытий, покрытий с повышенной износостойкостью, тепловой защитой, тонких пленок и слоев гетерофазных структур в электронной промышленности;
• осаждение порошковых материалов различной дисперсности, микро- и наноматериалов;
• газофазный синтеза новых веществ заданного состава;
• исследование разложения прекурсоров при воздействии температур и давлений;
• исследование процессов переноса прекурсоров в потоках газов;
• и т.д.

Нами были собраны установки для газофазного (парофазного CVD) осаждения для работы с небольшими натурными сложных форм. Установки включали в себя разработанные нами модульные унифицированные блоке для CVD установок и были построены на тех же принципах, что и исследовательская CVD-установка для образцов плоской формы.

Плюсом разработанной схемы сборки CVD-установок является то, что для работы с деталями разных форм требуется, в основном, только изменение конструкции реактора.

Поэтому наиболее существенным отличием установок являлись реакторы, используемые для осаждения.