Некоторые наши статьи

1. Термодинамический анализ химического газофазного осаждения Tа восстановлением галогенидов тантала кадмием и цинком. 184.36 КБ

Термодинамический анализ газофазного восстановления кадмием и цинком галогенидов тантала позволил указать области образования конденсированных фаз в зависимости от температуры и соотношений реагентов. Чистые танталовые пленки могут быть получены в системах TaCl₅–Zn, ТаCl₅–Cd при 950 K и выше, в системе ТаBr₅–Cd при 750 K и выше, в системах TaBr₅–Zn, TaI₅–Cd, TaI₅–Zn во всем расчетном диапазоне температур. Практически, ниже температур 800 (с Zn) и 650 K (с Cd) скорость осаждения тантала будет невелика. Образование оксигалогенидов в процессе осаждения способствует очистке реакционной зоны от примесей кислорода.

2. Оборудование для химического безводородного газофазного осаждения бескислородных тугоплавких материалов731.36 КБ

Рассмотрены проблемы разработки оборудования для безводородного низкотемпературного химического газофазного осаждения (CVD) покрытий тугоплавких материалов. Предложены конструктивные решения для испарения/сублимации и транспортировки прекурсоров в реакционную зону.

3. Анализ взаимодействия реагентов и материалов подложек при нанесении танталовых покрытий429.54 КБ

Проведен анализ характера взаимодействия реагентов и материалов подложек при восстановлении бромида тантала кадмием при осаждении покрытий из тантала на металлические подложки Cu, Fe, Mo, Ni и сплавы 25Х3М3НБЦА, Ni3Al, ВКНА, ЖС32. Показано, что подложки из молибдена и ни- келя наиболее устойчивы к применяемым реагентам, медь и железо подвергаются травлению, а алюминий, хром и титан могут конкурировать с применяемым в качестве восстановителя кадмием. При наличии в сплавах углерода в промежуточном слое металл–покрытие будет образовываться карбид тантала, а примеси кислорода во всех случаях, кроме тех, когда в сплавах присутствует алюминий, будут удаляться в виде оксибромидов. В качестве оптимальных материалов для изготовле- ния реакционной камеры для осаждения тантала следует использовать жаростойкие стали с нике- левым покрытием.

4. Химическое газофазное осаждение карбида тантала1.23 МБ

С помощью новой методики газофазного безводородного низкотемпературного химического осаждения в системе «TaBr5 – CCl4 – Cd» получены покрытия карбида тантала на подложках из молибдена, стали и сплава ЖС6У-ВИ. На всех подложках формируется однофазное покрытие карбида тантала состава ТаС0,72-0,86. На сплаве ЖС6У-ВИ наблюдается самая высокая скорость роста покрытий, примерно в два раза выше, чем на подложке из молибдена.