Устройство для высокоточного дозирования подачи жидких и твердых химических веществ (реагентов), летучих при температурах от -30^оС до 50^оС.

Компактен, энергоэффективен.

В дозаторе задаются температура испарения подаваемого вещества и скорость подачи потока инертного газа-носителя, обеспечивающего доставку насыщенных паров в реакционную зону.

Необходим в процессах газофазного синтеза материалов, при выполнении высокоточных операций, например, при нанесении газофазных покрытий заданного состава, в производстве нанопорошков и полупроводниковых материалов, при создании современных лекарственных препаратов.

Нами применяется в разработанных нами установках для газофазного нанесения покрытий (CVD - chemical vapour deposition) для подачи реагентов в реактор.

Высокотемпературный дозатор обеспечивает дозирование твердых реагентов, испаряемых при температурах от 50 до 1100^оС и доставляемых потоками газа-носителя в реакционную камеру.

Устанавливается непосредственно в патрубок реактора.

В дозаторе задаются температура испарения подаваемого вещества и скорость подачи потока инертного газа-носителя, обеспечивающего доставку насыщенных паров в реакционную зону.

Необходим в процессах газофазного синтеза материалов, при выполнении высокоточных операций, например, при нанесении газофазных покрытий заданного состава, в производстве нанопорошков и полупроводниковых материалов, при создании современных лекарственных препаратов.