Нами разработаны:
- современный комплекс оборудования для проведения CVD процессов, получены патенты на некоторые устройства,
- методики безводородного осаждения таких высокотемпературных материалов, как: тантал, карбид тантала, молибден, кремний и силициды,
- теоретические основы низкотемпературного безводородного процесса химического газофазного осаждения материалов с помощью восстановления галогенидов парами металлов-восстановителей,
- ведутся разработки методов нанесения других покрытий.
Наши преимущества
Разработанное нами CVD оборудование для осаждения материалов является
- недорогим,
- унифицированным,
- модульным,
- многофункциональным,
- управляется современным программным обеспечением с визуализацией процессов.
Оборудование может использоваться для осаждения разных типов материалов и покрытий, в том числе многослойных, композитных, тугоплавких, керамических на изделия сложной формы, имеющие полости и отверстия.
Отдельные модули, используемые в оборудовании (дозаторы, криостаты, управления потоками газов) могут использоваться для иных, не связанных с CVD, целей и адаптированы в другие установки.
