Установки для нанесения газофазных (парофазных) покрытий на детали сложной формы

внутри реактора CVD  для нанесения покрытий на вращаемые образцы сложной формы

Нами были собраны установки для газофазного (парофазного CVD) осаждения для работы с небольшими натурными сложных форм. Установки включали в себя разработанные нами модульные унифицированные блоке для CVD установок и были построены на тех же принципах, что и исследовательская CVD-установка для образцов плоской формы.

Плюсом разработанной схемы сборки CVD-установок является то, что для работы с деталями разных форм требуется, в основном, только изменение конструкции реактора.

Поэтому наиболее существенным отличием установок являлись реакторы, используемые для осаждения.

Подробнее: Установки для нанесения газофазных (парофазных) покрытий на детали сложной формы

Исследовательская установка для химического газофазного (парофазного) осаждения материалов на образцы плоской формы

Исследовательская CVD-установка для осаждения покрытий на плоские образцы

Назначение установки ЛП

Изучение процессов химического газофазного (парофазного) осаждения на образцы плоской формы.

Установка может применяться для решения следующих задач:

  • осаждение покрытий, в том числе многослойных и градиентных, используемых в качестве защитных покрытий, покрытий с повышенной износостойкостью, тепловой защитой, тонких пленок и слоев гетерофазных структур в электронной промышленности;
  • осаждение порошковых материалов различной дисперсности, микро- и наноматериалов;
  • газофазный синтеза новых веществ заданного состава;
  • исследование разложения прекурсоров при воздействии температур и давлений;
  • исследование процессов переноса прекурсоров в потоках газов;
  • и т.д.

Подробнее: Исследовательская установка для химического газофазного (парофазного) осаждения материалов на...