Установка для химического газофазного (парофазного) осаждения EasyTube 3000

CVD-установка для осаждения покрытий на плоские образцы

Имеющаяся у нас установка ЕТ 3000 EXT производства компании Firstnano предназначена для химического газофазного осаждения пленок и покрытий при температурах до 1200ºС на плоские образцы размерами до 70х50 мм, изготовленные из различных материалов.

Характеристики установки ET 3000

Химическое газофазное осаждение может быть проведено из газообразных, жидких и твердых прекурсоров как при пониженном, так и атмосферном давлении.

В качестве газов-носителей могут быть использованы инертные газы: аргон, азот, гелий.

Рабочими газами могут служить любые инертные, окислительные и восстановительные газы, включая кислород, водород, силан, аммиак, метан и прочие.

Прекурсорами могут служить жидкие, а также твердые вещества с низкой температурой плавления (до ~ 140-150ºС):
это металлоорганические и неорганические соединения с достаточным давлением паров.
Твердые вещества с более высокой температурой плавления могут быть также использованы в ограниченном количестве применением 2-х специальных источников паров при нагревании до 400ºС.

Установка располагает источником радиоплазмы, позволяющим модифицировать процесс осаждения пленок/покрытий и понизить температуру реакции разложения прекурсоров.

Установка снабжена отдельным блоком окисления, нейтрализации, отмывки и охлаждения отходящих газов для удаления обезвреженных газов в вентиляцию и канализацию.

Охлаждение тоководов, газовых линий, генератора плазмы, газоочистки и вакуумных насосов производится водою из магистрального водопровода. Для уменьшения расхода воды имеется система оборотного водоснабжения с воздушным теплообменником.

Установка состоит из следующих основных блоков:

– Блок управления;

– Система разгрузки/загрузки;

– Реактор;

– Система газоочистки очистки;

– Система водяного охлаждения.

Блок управления представляет панель, на которой расположены основные кнопки управления и сигнализации, а также монитор компьютера с главной мнемо-схемой установки, позволяющей в визуальном режиме отслеживать состояние основных узлов и параметров протекающего процесса, а также контролировать возможные сбои и способы их устранения

  
 
CVD-реактор

Реактор

Реактор предназначен для проведения процесса химического газофазного осаждения необходимых слоев на подложки из различных материалов при температурах до 1200°С при использовании различных газовых атмосфер. Реактор изготовлен из плавленого кварца.

Термопары вводятся в три зоны реактора через центральную трубку, одновременно являющуюся держателем для образцов.

Прекурсор подается через кварцевую форсунку (красный цвет).

Желтым на рисунке обозначена тепловая пробка из пористого кварца.

"

Фланцевые уплотнения подвергаются откачке отдельным вакуумным насосом с контролем натекания.

 

 

Источник-сублиматор для твердых прекурсоров.

Источник-сублиматор для твердых прекурсоров предназначен для образования газовой реакционно смеси для проведения процессов осаждения.

Представляет собой тигель из оксида алюминия, в которую закладывается ~ 1-1,5см3 твердого прекурсора.

Чашка закрывается кварцевой крышкой с инжектором и трубкой, доставляющей полученную газовую смесь в зону реакции.

Возможна установка двух источников.

 

 

"

Нагрев реактора

Нагрев реактора осуществляется трехзонной печью сопротивления с контролирующими термопарами.

Мощность нагрева и температура зон задаются с помощью интерфейса управления.

Токовводы охлаждаются проточной водой (красные трубки).

Вспомогательные газы также могут быть подогреты и подведены по нагретым магистралям в зону реакции.

 

 

Источник плазмы

"

 

Источник удаленной радиоплазмы предназначен для активизации реакционных процессов, позволяет снизить температуру осаждения и улучшить условия образования покрытий/пленок.

Предназначен для работы с газообразными или жидкими прекурсорами.

От металлического фланца отделяется графитовым экраном.

Источником плазмы является генератор, расположенный под системой загрузки.

 

 

Система загрузки/выгрузки.

"

Система загрузки/выгрузки предназначена для автоматического введения/выведения образцов из зоны реакции.

Представляет собой вакуумную камеру, позволяющую вакуумировать образец, провести отмывку его аргоном (25 л) при закрытом вакуумной заслонкой реакторе, затем ввести его в реакционную зону, одновременно обеспечив ее герметичность.

Перемещение образцов осуществляется с помощью штока. Необходимые коммуникации, включая три термопары, водяное охлаждение и токовводы для твердотельных источников расположены внутри полого центрального штока.