Исследовательская установка для химического газофазного (парофазного) осаждения материалов на образцы плоской формы

Исследовательская CVD-установка для осаждения покрытий на плоские образцы

Назначение установки ЛП

Изучение процессов химического газофазного (парофазного) осаждения на образцы плоской формы.

Установка может применяться для решения следующих задач:

  • осаждение покрытий, в том числе многослойных и градиентных, используемых в качестве защитных покрытий, покрытий с повышенной износостойкостью, тепловой защитой, тонких пленок и слоев гетерофазных структур в электронной промышленности;
  • осаждение порошковых материалов различной дисперсности, микро- и наноматериалов;
  • газофазный синтеза новых веществ заданного состава;
  • исследование разложения прекурсоров при воздействии температур и давлений;
  • исследование процессов переноса прекурсоров в потоках газов;
  • и т.д.

Технические характеристики установки ЛП

  • максимальная потребляемая мощность - 15 кВт,
  • рабочее напряжение силового блока: трехфазная сеть 380 В,
  • время непрерывной работы системы - не менее 24 часов с последующим перерывом не менее 4 часов,
  • основной газ-носитель - He или Ar, возможные газы-реагенты: N2, H2, NH3,
  • объемный расход газов-носителей - от 1 до 100 л/час,
  • количество каналов подачи газа – 4 шт, расход газов по каналам до 600 мл/мин (по воздуху), возможность регулирования скоростей потоков газов,
  • нагрев зоны осаждения покрытия на поверхности образца - 300 – 900°С,
  • размеры образца: не более 40 мм в диаметре, (до 100 мм на более крупном реакторе);
  • рабочее давление вакуумной системы лабораторной установки от 10 до 2х105 Па.

Блоки исследовательской лабораторной установки для на нанесения покрытий на образцы плоской формы

Исследовательская CVD-установка для осаждения покрытий на плоские образцы

Установка размещена в наборе стандартных унифицированных монтажных элементов - стоек для крепления элементов установки, проводов и кабелей.

Содержит следующие основные системы и блоки

1) Система электропитания с силовым блоком, поддерживающим токовые нагрузки в элементах, предназначается для питания приборов и трансформаторов, для защиты установки от перегрузок, содержит: общий щит питания, щиты питания приборов и устройств, блок управления, силовую разводку

2) Блок подачи газов с газовыми баллонами с редукторами для снижения давления газов и системой очистки газов.

CVD-реактор для нанесения покрытий на плоские образцы

Реактор для нанесения покрытий
на образцы плоской формы.

3) Блок управления расходами газов, включает в себя 4-е регулятора расхода газов РРГ-12.

4) Блок дозирования жидких и твердых реагентов, включающий в себя дозирующие испарители для дозирования концентраций галогенов и четыреххлористого углерода в газовых потоках.

5) Система управления работой установки, предназначена для контроля за работой установки и управления процессами. Состоит из программируемого логического контроллера ПЛК110-220.60Р-М 1шт, модулей ввода-вывода информации МУ110-224.16К 1шт. и МВ110-224-8А 2шт., модуля визуализации ОВЕН СП270, управляющий компьютер.

6) Реактор для нанесения покрытий на образцы плоской формы содержит высокотемпературный испаритель галогенида тугоплавкого металла, испаритель металла-восстановителя, печи для резистивного нагрева галогенида, металла-восстановителя, резистивного и индукционного нагрева образцов в камере для осаждения покрытий с кассетным устройством для подачи образцов, сопловой блок для смешения потоков реагентов, труб для ввода реагентов и вывода продуктов реакции.

Исследовательский реактор имеет диаметр 150мм, что позволяет разместить внутри него резистивный или индукционный нагреватель с образцом диаметром не более 40 мм и высотой не более 50мм. Кроме исследовательского реактора нами разработан и используется более крупный реактор, с диаметром 250мм, что позволяет устанавливать образцы с диаметром и высотой до 100мм.

Блок ступенчатой селективной доочистки газов от воды, кислорода и других примесей
Блок ступенчатой селективной
доочистки газов от воды,
кислорода и других примесей
Сенсорная управляющая панель
Сенсорная управляющая панель (регулирование газовых потоков)
Программный интерфейс исследовательской установки подобен интерфейсу на других установках, представленных тут >>>