Наши разработки и технологии CVD

Нами разработаны:

- теоретические основы низкотемпературного безводородного процесса химического газофазного осаждения (CVD) материалов с помощью восстановления галогенидов парами металлов-восстановителей,

- современный комплекс оборудования для проведения CVD процессов,

- методики осаждение таких высокотемпературных материалов, как: тантал, карбид тантала, молибден, кремний и силициды,

- ведутся разработки методов нанесения других покрытий.

Наши преимущества

Разработанное нами CVD оборудование для осаждения материалов является недорогим, унифицированным, модульным, многофункциональным, управляется современным программным обеспечением с визуализацией процессов.

Оборудование может использоваться для осаждения разных типов материалов и покрытий, в том числе многослойных, композитных, тугоплавких, керамических на изделия сложной формы, имеющие полости и отверстия. Отдельные модули, используемые в оборудовании (дозаторы, криостаты, управления потоками газов) могут использоваться для иных, не связанных с CVD, целей и адаптированы в другие установки.